テリトリアル・トラップ：米国由来および中国由来の発明に関する外国出願制限

エグゼクティブ・サマリー：米国および中国で、または両国にまたがって開発された発明については、最初の特許出願をどこに行うかの判断は、発明者の国籍、会社の本店所在地、または希望する出願地ではなく、発明がどこでなされたかという属地的な発明地分析から始めるべきである。米国は一般に、米国でなされた発明について、外国に出願する前に外国出願許可を要求する。ただし、米国出願が秘密保持命令を受けずに少なくとも6か月係属している場合、または別の許可ルートが適用される場合はこの限りでない。これに対し、中国は、中国で完成された発明または実用新案、すなわち技術的解決手段の実質的内容が中国で完成されたものについて、外国出願前に秘密保持審査を要求する。これらの規則は、特に分散型チームが請求項に係る発明の異なる側面に貢献する国境を越えた研究開発において、見落とされやすい。中国国民が米国内で米国由来の発明を創出することもあり、米国国民が中国内で中国由来の発明を創出することもある。したがって、特許チームは出願前にクレームを中心とした貢献分析を行い、クリアランス記録を保存し、米国仮出願、中国での第一国出願、または PCT 出願によって両国の国家安全保障審査要件が自動的に解決されると想定することを避けるべきである。

I. はじめに

多国籍の特許出願戦略は、しばしばなじみのある問いから始まる。市場はどこか。競合他社はどこにいるか。最初の出願は米国仮出願、中国出願、欧州出願、または PCT 出願のいずれにすべきか。しかし、米国および中国で、または両国にまたがって開発された発明については、より基本的な問いを先に置くべきである。すなわち、その発明はどこでなされたのか、という問いである。

この問いが重要なのは、米国と中国の双方が、国家安全保障審査が行われる前の一定の外国特許出願を制限しているからである。米国の仕組みは一般に外国出願許可と呼ばれる。これに対応する中国の制度は、通常、秘密保持審査または秘密保持レビューと呼ばれる。政策上の根拠は類似しているが、両制度は用語、発動要件、手続、対象範囲、時期、および効果において異なる。

最も重要な実務上の点は、いずれの制度も主として発明者の国籍を基準とする規則ではないということである。米国は、その発明が米国でなされたかを問う。中国は、その発明または実用新案が中国で完成されたか、すなわち技術的解決手段の実質的内容が中国で完成されたかを問う。中国国民が物理的に米国内にいる間に米国由来の発明を創出することもあり、米国国民が物理的に中国内にいる間に中国由来の発明を創出することもある。

II. 共通する政策：外国開示前の国家安全保障スクリーニング

外国出願許可に関する法制度は、特許出願実務、輸出管理、国家安全保障審査、および発明地分析が交差する領域に位置する。これらは通常の優先権規則ではない。発明が特許可能であり、出願人がその発明を所有しており、請求項が十分にサポートされており、出願がパリ条約または PCT の期限規則を満たしている場合であっても、外国出願許可の問題は生じ得る。

米国の法的枠組みは主として 35 U.S.C. §§ 181-188 と、37 C.F.R. Part 5 の施行規則に置かれている。第184条は、米国でなされた発明について、出願人が必要な許可を取得しているか、米国出願後に秘密保持命令の制限を受けずに法定の6か月期間が経過している場合を除き、外国出願を制限する。35 U.S.C. § 184; 37 C.F.R. § 5.11(a), (e)。中国の規則は中華人民共和国専利法第19条にあり、中国で完成された発明または実用新案について外国出願をする前に秘密保持審査を要求している。Patent Law of the People’s Republic of China art. 19 (promulgated by the Standing Comm. Nat’l People’s Cong., Mar. 12, 1984, amended Oct. 17, 2020, effective June 1, 2021) [hereinafter China Patent Law].

これらの規則は、通常の特許出願ワークフローより前に問題となるため、見落とされやすい。特許チームは発明者性、所有権、輸出分類、優先権、またはクレーム範囲に集中している一方で、出願部門は単に米国、中国、欧州、または PCT で最初に出願するという指示を実行するだけということがある。しかし、出願順序が適用される国家安全保障クリアランス規則に違反していれば、その問題は後から治癒できないことがある。

III. 米国の外国出願許可制度

米国の規則は、米国でなされた発明について外国に出願しようとする場合に適用される。37 C.F.R. § 5.11(a) によれば、発明が米国でなされ、かつ米国出願がまだなされていないか、想定される外国出願の6か月未満前に米国出願がなされた場合には、外国、または外国もしくは国際的な知的財産官庁において、特許出願（その変更、補正、補充、または分割を含む）を行う前、または実用新案、意匠もしくはモデルの登録を求める前に、Commissioner for Patents からの許可が必要となる。37 C.F.R. § 5.11(a)(1)-(2)。

この規則は明示的に属地的である。「米国市民によってなされた発明」や「米国企業が所有する発明」とは規定していない。「米国でなされた」発明と規定している。37 C.F.R. § 5.11(a)。反対に、発明が米国でなされていない場合、または対応する米国出願が少なくとも6か月係属しており秘密保持命令の対象となっていない場合には、同項(a)に基づく許可は不要である。37 C.F.R. § 5.11(e)(1)-(2)。

米国の外国出願許可を取得する最も一般的な方法は、まず USPTO に出願することである。米国でなされた発明について米国出願を行うことは、外国出願許可の請願を含むものとして扱われ、出願受領書またはその他の USPTO の公式通知に、許可が付与されたかどうかが表示される。37 C.F.R. § 5.12(a); Manual of Patent Examining Procedure § 140 (9th ed., Rev. 01.2024) [hereinafter MPEP]。出願人は、米国出願がまだ行われていない場合、出願受領書が発行されていない場合、追加の主題について許可が必要な場合、または迅速な処理が必要な場合などには、明示的な許可請願を提出することもできる。37 C.F.R. §§ 5.12(b), 5.13, 5.14; MPEP § 140。

米国の規則には、輸出管理の側面も含まれる。外国出願許可は、外国出願を準備し、出願し、出願の可能性を検討し、または手続する目的に関連する一定の技術データの輸出、および USPTO を受理官庁として国際出願を準備するための指定された WIPO オンラインサービスの利用を認める。37 C.F.R. § 5.11(b)。しかし、それは一般的な輸出管理クリアランスではない。技術データが外国特許出願と無関係の理由で輸出される場合には、他の輸出管理制度がなお適用されることがある。37 C.F.R. § 5.11(c); MPEP § 140。

不遵守の結果は重大であり得る。35 U.S.C. § 185 によれば、必要な許可を取得せずに不適切に外国出願をした者は、米国特許を受けることを禁じられる可能性があり、すでに発行された米国特許も、許可を取得しなかったことが錯誤によるもので、かつその特許が 35 U.S.C. § 181 の範囲内の主題を開示していない場合を除き、無効となり得る。35 U.S.C. § 185。故意の違反には刑事罰も科され得る。35 U.S.C. § 186。USPTO はまた、無許可の外国出願が錯誤により行われ、規則上の要件が満たされる場合には、遡及的な外国出願許可の請願も認めている。35 U.S.C. § 184; 37 C.F.R. § 5.25; MPEP § 140。

IV. 中国の秘密保持審査制度

中国の対応する規則は、米国用語でいう「外国出願許可」として構成されていない。中国専利法第19条は、いかなる単位または個人も、中国で完成された発明または実用新案について外国に特許出願をしようとする場合には、まず国務院専利行政部門に秘密保持審査を求めなければならないと規定している。China Patent Law art. 19。

米国の実務家にとって特に重要な特徴が二つある。第一に、第19条は「いかなる単位または個人」にも適用される。中国国民、中国企業、または中国居住の発明者に限定されない。China Patent Law art. 19。第二に、この規則は「中国で完成された」発明および実用新案に向けられている。Id. 現行の実施細則は、この文言を、技術的解決手段の実質的内容が中国の領域内で完成された発明または実用新案を意味するものと定義している。Implementing Regulations of the Patent Law of the People’s Republic of China art. 8 (promulgated by the State Council, June 15, 2001, amended Dec. 11, 2023) [hereinafter China Patent Law Implementing Regulations]。

実施細則第8条は手続ルートを定めている。中国で完成された発明または実用新案について、出願人が外国に直接出願し、または関連する外国機関に国際特許出願を提出しようとする場合、出願人はまず秘密保持審査請求を提出し、技術的解決手段について詳細な説明を提供しなければならない。China Patent Law Implementing Regulations art. 8(1)。出願人がまず中国で出願し、その後外国出願または外国機関への国際特許出願の提出を行おうとする場合、外国出願前に秘密保持審査請求を提出しなければならない。Id. art. 8(2)。国務院専利行政部門に国際特許出願を提出することは、秘密保持審査請求を含むものとみなされる。Id. art. 8。

時期に関する規則も具体的である。実施細則第9条によれば、専利行政部門が審査の結果、発明または実用新案が国家安全保障または重要な国家利益に関わり秘密保持を要する可能性があると判断した場合、請求提出日から2か月以内に秘密保持審査通知を発しなければならない。複雑な事件では、その期間をさらに2か月延長できる。China Patent Law Implementing Regulations art. 9。秘密保持審査が進行する場合、秘密保持が必要かどうかの決定は請求提出日から4か月以内に行わなければならず、複雑な事件では2か月延長できる。Id。

第19条に違反した場合の制裁は直接的であり、商業上も重要である。第19条に違反して発明または実用新案について外国に特許出願をした場合、その発明または実用新案について中国で特許出願をしても、専利権は付与されない。China Patent Law art. 19。その違反により国家秘密が漏えいした場合、第78条は行政処分および刑事責任の可能性を定めている。Id. art. 78。

V. 米国制度と中国制度の主な相違

米国と中国の制度は、政策面では類似しているが、実施方法は異なる。

米国では、機能する仕組みは 35 U.S.C. § 184 および 37 C.F.R. Part 5 に基づく許可である。通常、米国出願によって許可審査が自動的に開始され、出願受領書またはその他の USPTO 通知により許可が付与されたかどうかが示される。37 C.F.R. § 5.12(a); MPEP § 140。中国では、機能する仕組みは中国専利法第19条ならびに実施細則第8条および第9条に基づく秘密保持審査である。China Patent Law art. 19; China Patent Law Implementing Regulations arts. 8-9。

米国の規則は、特許、実用新案、意匠、またはモデルの出願または登録を明示的に対象としている。37 C.F.R. § 5.11(a)。中国の第19条制度は、意匠ではなく、発明および実用新案を対象としている。China Patent Law art. 19。この相違は、意匠中心の消費者製品において重要である。米国由来の意匠出願は 37 C.F.R. Part 5 に関係する可能性がある一方、中国第19条はその文言上は適用されない場合がある。もっとも、国家秘密、技術輸出、データセキュリティ、または国家安全保障に関する他の中国法をなお検討する必要があり得る。

米国制度には実務的な6か月ルートがある。対応する米国出願が少なくとも6か月係属しており、秘密保持命令の対象となっていない場合、37 C.F.R. § 5.11(a) に基づく許可は不要である。37 C.F.R. § 5.11(e)(2)。中国制度は、米国型の6か月セーフハーバーとして構成されていない。むしろ、第19条が適用される場合、出願人は外国出願の前に秘密保持審査を請求しなければならない。China Patent Law art. 19; China Patent Law Implementing Regulations art. 8。

米国制度はまた、外国出願が錯誤により行われ、関連要件が満たされる場合に遡及的救済を定めている。35 U.S.C. § 184; 37 C.F.R. § 5.25。中国第19条については、これと同等の米国型の遡及的許可制度があるものとして扱うべきではない。中国でより安全な実務は、外国出願の前に秘密保持審査のクリアランスを取得することである。

VI. 難しい事例：発明はいつ「なされた」のか、または技術的解決手段はいつ「完成」したのか

容易な事例は明快である。すべての発明活動が米国内で行われた場合、米国以外の出願前に米国の外国出願許可規則を検討すべきである。See 35 U.S.C. § 184; 37 C.F.R. § 5.11(a)。発明または実用新案のすべての実質的開発が中国で行われた場合、外国出願前に中国の秘密保持審査要件を検討すべきである。See Patent Law of the People’s Republic of China art. 19; Implementing Regulations of the Patent Law of the People’s Republic of China art. 8。難しい事例は単一国の事例ではない。分散開発の事例である。

現代の共同研究開発では、発明の物語が一つの場所にきれいに対応しないことが多い。あるチームが技術的課題を特定し、別のチームが中核アルゴリズムを提案し、第三のチームが制御アーキテクチャを設計し、第四のチームが実験的にシステムを検証することがある。その後、商業チームが発明を価値あるものにする実施形態を追加することもある。このような状況では、出願許可に関する問いを、パスポート、会社の本店所在地、会議場所、または渡航記録だけに還元すべきではない。これらの事実は関連証拠となり得るが、法的な問いに代わるものではない。

米国については、法律および規則の文言は、その発明が米国で「なされた」かを問う。35 U.S.C. § 184; 37 C.F.R. § 5.11(a)。この問いは、着想および発明的貢献に関する通常の米国特許法原則に照らして考えるべきである。米国法では、着想には一般に、完全かつ実施可能な発明についての明確かつ恒久的なアイデアが必要であり、単なる研究目標、望ましい結果、または誰かに問題解決を依頼することだけでは足りない。See Hybritech Inc. v. Monoclonal Antibodies, Inc., 802 F.2d 1367, 1376 (Fed. Cir. 1986); Burroughs Wellcome Co. v. Barr Labs., Inc., 40 F.3d 1223, 1227-28 (Fed. Cir. 1994)。したがって、分散プロジェクトでは、請求項の目的上、請求された発明的概念が実際にどこで形成され、誰が発明を完成させる要素に貢献したのかを問うべきである。

中国については、問いの構成が異なる。第19条は、発明または実用新案が「中国で完成された」場合に適用され、実施細則は、これを、技術的解決手段の実質的内容が中国領域内で完成された発明または実用新案を指すものと説明している。Patent Law of the People’s Republic of China art. 19; Implementing Regulations of the Patent Law of the People’s Republic of China art. 8。この表現は、発明者の国籍、出願人の居住地、または特許部門の管理上の所在地ではなく、技術的解決手段の実質に注意を向けさせるものである。

この文言の違いは重要である。米国の検討は、自然に着想および発明的貢献の場所と整合しやすい。中国の検討は、技術的解決手段の実質的内容がどこで完成されたかに焦点を当てる。これらの問いは多くの場合同じ国を指すが、常にそうとは限らない。たとえば、米国チームが一般的な発明概念を形成し、中国拠点チームがその解決手段を実施可能にする具体的な技術アーキテクチャを提供することがある。反対に、中国拠点チームが技術的解決手段を特定し、その後米国チームが請求項上重要な改良を加えることもある。いずれの場合も、最終会議の場所または最初の特許明細書作成セッションの場所に基づく機械的な規則は信頼できない。

よりよい実務は、最初の出願地を選択する前に、クレームを中心とした貢献分析を行うことである。法律顧問は、独立請求項に現れる可能性が高い特徴を特定し、それらの特徴に誰が貢献したかを判断し、その貢献がどこで行われたかを対応付けるべきである。この分析では、課題の特定、望ましい性能目標の提案、通常の実装、すでに着想された発明の実施化、および請求された発明的解決手段の一部となる特徴への貢献を区別すべきである。See Ethicon, Inc. v. U.S. Surgical Corp., 135 F.3d 1456, 1460-61 (Fed. Cir. 1998); Burroughs Wellcome, 40 F.3d at 1227-28。

文書化は重要である。近接事例では、記録には発明開示書、会議メモ、実験ノート、ソースコードのコミット履歴、設計レビュー資料、技術図面、試験プロトコル、電子メールのやり取り、および特許明細書作成記録を含めるべきである。目的は、単に特定日に人々がどこにいたかを再構築することではなく、法的および技術的に重要な貢献がどこで行われたかを判断することである。渡航予定表は、エンジニアが上海、ボストン、深圳、またはサンノゼにいたことを示し得るが、実質的な発明的貢献がどこで行われたかを必ずしも示すものではない。

この分析は、最初の出願が米国仮出願、中国発明出願、または PCT 出願である場合に特に重要である。米国仮出願は、米国でなされた発明については適切であり得るが、発明または実用新案の実質的内容が中国で完成された場合、中国の観点からは外国出願となり得る。反対に、中国に最初に出願しても、クレームに関連する発明的主題が米国でなされた場合には、米国の外国出願許可問題を解決しないことがある。See 35 U.S.C. § 184; 37 C.F.R. § 5.11(a); Patent Law of the People’s Republic of China art. 19; Implementing Regulations art. 8。

実務上の教訓は、「発明はどこでなされたか」という問いが、「会議はどこで行われたか」または「発明者はどこに雇用されていたか」と常に同じではないということである。米中間の分散型研究開発では、より安全な問いはさらに精密である。すなわち、実質的な発明的貢献はどこで行われたのか、そして中国については、技術的解決手段の実質的内容はどこで完成されたのか。この問いは、最初の出願指示が送られる前に答えられるべきである。

VII. よくあるシナリオ

以下のシナリオは、上記の貢献ベースのアプローチを適用するものである。各シナリオは単純化された事実を前提としているが、現実の分析では、実質的な発明的貢献を特定し、それがどこで行われたかを判断し、そのうえで米国の外国出願許可審査、中国の秘密保持審査、またはその双方が必要かを評価するという、クレームを中心とした分析を維持すべきである。

シナリオ1：米国のみの研究開発で、最初の出願を米国外で行いたい場合

すべての発明的作業が米国内で行われたが、出願人が欧州、中国、または米国以外の受理官庁に提出する PCT 出願を通じて最初に出願したいと仮定する。発明が米国でなされた以上、対応する米国出願がすでに少なくとも6か月係属しており秘密保持命令が適用されない場合を除き、外国出願前に米国の外国出願許可が一般に必要となる。35 U.S.C. § 184; 37 C.F.R. § 5.11(a), (e)(2)。

通常の解決策は、まず USPTO に出願し、出願受領書またはその他の公式通知が許可を付与していることを確認すること、37 C.F.R. § 5.12(b) に基づく明示的な請願を提出すること、または米国出願後に秘密保持命令が発せられていなければ6か月待つことである。37 C.F.R. §§ 5.11(e)(2), 5.12; MPEP § 140。

シナリオ2：中国の研究開発センターで、米国親会社が米国仮出願を最初に提出したい場合

発明または実用新案の実質的な技術内容が中国で完成されたが、企業の特許チームが米国仮出願を最初に提出したいと仮定する。中国の観点からは、米国仮出願は外国特許出願である。発明または実用新案が中国で完成された場合、第19条はその米国出願前に秘密保持審査を要求する。China Patent Law art. 19; China Patent Law Implementing Regulations art. 8。

米国仮出願が通常直ちに公開されないという事実は、第19条の問題を消滅させない。発動要件は、中国で完成された発明または実用新案について外国に出願することであり、公開ではない。China Patent Law art. 19。

シナリオ3：米中双方からの発明的貢献

米国と中国の双方にいる発明者または技術貢献者が、請求された発明的概念に貢献したと仮定する。これは、最も難しく、かつ最も一般的な多国籍問題である。発明の一部が米国内でなされたため、米国法が関係する可能性がある。37 C.F.R. § 5.11(a)。また、技術的解決手段の実質的内容が少なくとも一部は中国で完成された可能性があるため、中国法も関係する可能性がある。China Patent Law art. 19; China Patent Law Implementing Regulations art. 8。

この状況では、出願チームは、いずれか一方の法域に最初に出願すればすべての問題が解決すると想定すべきではない。USPTO に最初に出願すれば米国の許可審査には対応できるかもしれないが、中国の秘密保持審査要件を必ずしも満たすわけではない。中国に最初に出願すれば中国の秘密保持審査上の懸念には対応できるかもしれないが、米国でなされた主題について米国の外国出願許可を自動的に与えるものではない。最も安全なアプローチは、いずれかの法域の外に出願する前に、双方のクリアランスが必要かどうかを分析することである。

シナリオ4：中国国民が米国企業との会議中に米国内で発明を創出する場合

中国国民が米国企業との技術会議のために米国に渡航したと仮定する。その会議中に、中国国民が単独で、または米国企業の人員と共同で発明を着想する。その後、当事者は中国、欧州、または USPTO 以外を受理官庁とする PCT 出願として最初に出願したいと考える。

発明者が中国国民であることは、米国の外国出願許可分析を支配すべきではない。発明が米国でなされた場合、米国の規則が適用され得る。37 C.F.R. § 5.11(a)。対応する米国出願が秘密保持命令なしに少なくとも6か月係属しているため許可が不要となる場合を除き、外国出願前に米国の外国出願許可を取得するのが一般に適切である。37 C.F.R. § 5.11(e)(2)。

また、発明者が中国国民であることだけで中国第19条が発動されるべきでもない。中国の法定の問いは、発明または実用新案が中国で完成されたかである。China Patent Law art. 19。すべての実質的技術内容が米国内で完成された場合、発明者が中国人であるというだけで第19条が発動されるのは通常適切ではない。この結論は、重要な技術内容が会議前に中国で開発されていた場合、中国拠点の人員が中国から実質的特徴に貢献していた場合、または国家秘密、雇用、もしくは技術移転に関する規則が独立して適用される場合には変わり得る。

教訓は明快である。中国国民は、外国出願許可の目的上、米国由来の発明を創出し得る。

シナリオ5：米国国民が中国企業との会議中に中国内で発明を創出する場合

次に、米国国民が中国企業との技術会議のために中国に渡航したと仮定する。中国での会議中に、米国国民が単独で、または中国企業の人員と共同で、請求された発明を着想する。当事者は最初に米国仮出願として出願したいと考える。

発明者が米国国民であることは、中国の秘密保持審査分析を支配すべきではない。技術的解決手段の実質的内容が中国で完成された場合、その発明または実用新案は実施細則第8条に基づき「中国で完成された」ものであり、米国仮出願の前に秘密保持審査請求を提出すべきである。China Patent Law art. 19; China Patent Law Implementing Regulations art. 8。

発明者が米国国民であるというだけで、通常、米国の外国出願許可は必要とならない。発明が米国でなされていなければ、37 C.F.R. § 5.11(a) に基づく許可は不要である。37 C.F.R. § 5.11(e)(1)。ただし、請求された発明の一部が米国内で着想された場合、米国拠点の人員が米国から発明的貢献を行った場合、または後の補正に米国由来の主題が追加された場合には、分析は変わる。

教訓は同じく明快である。米国国民は、外国出願制限の目的上、中国由来の発明を創出し得る。

シナリオ6：PCT を最初に出願する場合

PCT 出願は有用であり得るが、各国の出願許可問題を消滅させるものではない。発明が米国でなされた場合、USPTO を受理官庁として PCT 出願をすることは、外国受理官庁に出願することとは異なって扱われる。37 C.F.R. § 5.11(a); MPEP § 1832。発明または実用新案が中国で完成された場合、中国の専利行政部門に国際特許出願をすることは、秘密保持審査請求を含むものとみなされる。China Patent Law Implementing Regulations art. 8。

受理官庁は重要である。米国由来の主題については、RO/US がより安全な最初の PCT ルートとなり得る。中国由来の主題については、CNIPA を通じた PCT 出願により、請求が同時に行われたものとみなされるため、中国の秘密保持審査手続に対応できる可能性がある。米中混合の主題については、法律顧問は、いかなる PCT 出願の前にも米国と中国の双方のクリアランス要件を満たす必要があるかを評価すべきである。

シナリオ7：意匠中心の製品発売

米国の規則は、実用新案、意匠、またはモデルについての外国出願または登録を明示的に含む。37 C.F.R. § 5.11(a)。これに対し、中国第19条は発明および実用新案に言及している。China Patent Law art. 19。その結果、米国でなされた主題についての意匠出願は米国の外国出願許可問題を生じさせる可能性がある一方、中国第19条の秘密保持審査規則は、その文言上、意匠のみの出願には適用されない可能性がある。

この相違を過度に読み広げるべきではない。製品意匠は、技術的特徴、実用新案の主題、製造方法、ソフトウェア、または秘密技術情報と組み合わされることがある。意匠を先行させる出願計画であっても、実用新案出願、発明出願、輸出管理、技術移転規則、および秘密保持義務についてなおスクリーニングすべきである。

VIII. 結論

米国と中国の外国出願制度は国家安全保障という目的を共有しているが、相互に置き換え可能ではない。米国制度は、米国でなされた発明を基準とする外国出願許可制度である。中国制度は、中国で完成された発明および実用新案を基準とする秘密保持審査制度である。最も危険な誤りは、法定の問いを、国籍、会社の本店所在地、または希望する出願地で置き換えることである。

米中の特許ファミリーについては、最初の出願判断は、属地的な発明地分析から始めるべきである。米国内で発明する中国国民は、米国由来の外国出願許可問題を生じさせ得る。中国内で発明する米国国民は、中国の秘密保持審査問題を生じさせ得る。国境を越えた研究開発において、最も安全な問いは「どこに最初に出願したいか」ではなく、「どの国が、他の場所に出願する前にこの発明をクリアしなければならないか」である。