半導体
特許出願手続き
半導体デバイス、プロセッサアーキテクチャ、電子部品、製造技術、先進パッケージング、および関連ソフトウェアに関する米国特許弁護士
発行された特許は、特許審判部または米国特許商標庁中央再審査部において異議申し立ての対象となる可能性があります。これらの手続きは、侵害訴訟、和解交渉力、ライセンス供与、損害賠償、継続戦略、そして特許ファミリー全体の長期的な価値に影響を与える可能性があります。
AddyHartは、当事者間審査および一方的再審査手続きにおいてクライアントを代理します。当事務所の弁護士は、特許出願、特許審判部(PTAB)、控訴審、訴訟、および技術に関する豊富な経験を活かし、米国特許商標庁(USPTO)における手続きそのものだけでなく、特許庁外におけるその影響にも対応いたします。
半導体スタック全体にわたるイノベーションの保護
半導体におけるイノベーションは、単一のコンポーネントにのみ存在するものではありません。画期的な技術革新は、プロセッサアーキテクチャ、デバイス構造、製造プロセス、製造装置、ファームウェア、パッケージング、あるいはシステムレベルの動作など、様々な分野における進歩を伴う可能性があります。当社は、発明者および社内の知的財産チームと協力し、これらの独自の革新的な概念を特定し、半導体エコシステム全体にわたるイノベーションを保護するための、連携のとれた特許戦略を策定します。
デバイスと材料
半導体構造
材料
デバイス物理学
製造業
製造方法
プロセス機器
計測および検査
回路と部品
アナログ回路とデジタル回路
電子部品
パワーエレクトロニクス
ソフトウェアと統合
ファームウェア
制御ソフトウェア
オートメーション
アーキテクチャとシステム
プロセッサアーキテクチャ
システム設計
ワークロード管理
商業的な実装
パッケージ
高度な統合
最終用途アプリケーション
複数の技術分野にわたる連携したクレームを開発することで、当社はクライアントがさまざまな競合他社、サプライチェーン参加者、および商業的実装に対応できる特許ポートフォリオを構築できるよう支援します。
半導体技術
半導体技術革新は、プロセ ッサアーキテクチャやデバイス設計から製造、高度なパッケージング、システム統合に至るまで、技術ライフサイクルのあらゆる段階に及びます。当事務所の弁護士は、各分野特有の技術的・商業的考慮事項に合わせた特許戦略を策定するとともに、より広範な半導体エコシステム全体にわたる特許請求の範囲を調整します。
プロセッサおよびコンピューティングアーキテクチャ
現代のプロセッサは、アーキテクチャ、メモリ管理、セキュリティ、電力最適化、および特殊なコンピューティング技術における革新に依存しています。当社は、CPU、GPU、AIアクセラレータ、ヘテロジニアスコンピューティングプラットフォーム、その他の高度な処理技術を開発するお客様を支援し、将来の製品世代や進化する実装への柔軟性を維持しながら、重要なアーキテクチャ上の改善を保護する特許出願の準備を行います。
代表的な技術:
CPUとGPU
キャッシュとメモリ
電源管理
仮想化
AIアクセラレーター
並列コンピューティング
オンチップ相互接続
信頼できる実行
当社は、特定の製品世代や実装方法に結びついた不必要な制約を回避しつつ、根底にある技術的進歩を捉えた特許請求の範囲を開発することで、お客様が長期的な商業的価値を持つ特許ポートフォリオを構築できるよう支援します。
半導体デバイスおよび電子部品
半導体イノベーションは多くの場合、デバイスレベルから始まります。そこでは、材料、構造、回路設計の進歩によって、性能、効率、信頼性、製造性が向上します。当社は、パワーデバイス、アナログ回路およびミックスドシグナル回路、センサー、RF技術、その他の半導体コンポーネントを開発するクライアントを代理し、基盤となるデバイスイノベーションと、幅広い製品およびシステムへの実用化の両方を保護する特許出願の準備を支援します。
代表的な技術:
パワー半導体
アナログ回路およびミックスドシグナル回路
MOSFETとIGBT
RFおよび高周波デバイス
センサーおよび光エレクトロニクス
回路保護
半導体材料
受動部品
当社は、半導体デバイス、製造方法、動作特性、およびシステムレベルの実装に関する、連携のとれた特許請求の範囲を開発し、長期的な商業的価値を最大化します。
半導体製造・加工装置
半導体製造は、高度に専門化された装置、厳密に管理されたプロセス、そして洗練された自動化技術に依存しています。当社は、製造装置、プロセス制御システム、計測ツール、成膜・エッチング技術、ウェハハンドリングシステム、製造ソフトウェアの開発においてお客様を支援し、製造プロセス全体を通してイノベーションを保護する特許戦略の策定をサポートします。
代表的な技術:
成膜と薄膜
エッチングプロセス
熱処理プロセス
処理室
水処理
プラズマおよびガス制御
計測および検査
製造自動化
当社の訴訟戦略は、製造性能と歩留まりの向上を促進する装置、プロセス、ソフトウェア、およびそれらから生じる半導体構造を保護します。
高度なパッケージングと統合
高度な半導体パッケージングは、コンピューティング性能の向上、熱管理の改善、異種技術のより効率的な統合を可能にする、イノベーションの重要な源泉となっています。当社は、チップレットアーキテクチャ、3次元集積、高度な相互接続、熱対策、高密度パッケージング技術を開発するクライアントを支援し、構造的な革新とそれらがもたらす機能的な利点の両方を保護する特許戦略を策定します。
代表的な技術:
チップレットとモジュラー アーキテクチャ
2.5Dと3Dの統合
ダイスタッキング
シリコン貫通ビア(TSV)
再分配レイヤー
熱管理
高密度包装
死闘通信
当社は、パッケージ構造、相互接続アーキテクチャ、製造方法、システムレベルの性能向上などに関する包括的なクレームを作成し、高度な半導体集積化におけるイノベーションの保護をお客様に支援します。
半導体ソフトウェアおよびデータ分析
現代の半導体技術革新は、半導体技術の設計、製造、最適化、運用に使用される高度なソフトウェアへの依存度を高めています。当社は、電子設計自動化、ファームウェア、製造ソフトウェア、人工知能、データ分析ツールの開発を行うお客様を支援し、コンピュータ実装発明の根底にある技術的改善点を明確に示すとともに、進化する特許適格性に関する考慮事項に対応した特許出願書類の作成を支援します。
代表的な技術:
電子設計自動化
検証とシミュレーション
ファームウェアとデバイスドライバ
製造実行ソフトウェア
プロセス監視
設計・製造のためのAI
収量分析
性能と熱の最適化
当社の特許明細書作成戦略は、本発明によって解決される具体的な技術的問題、達成される運用上の改善、およびそれによってもたらされる半導体設計、製造、およびデバイス性能への利点を強調しつつ、将来のイノベーションのための柔軟性を維持することを目的としています。
透明性の高い価格設定
特許出願手続きを開始する前に、お客様には想定される費用をご理解いただくことが重要だと考えています。当社では、最も一般的なサービスの多くは事前に定められた専門家料金で提供しており、お客様は安心して予算を立て、予期せぬ請求を避けることができます。
出願書類作成手数料は、技術分野、複雑性、実施形態の数、および出願の想定される範囲に基づいて事前に設定されます。
当社は、米国特許商標庁(USPTO)からの通知および応答書作成に必要な情報を受領後、2週間以内に応答書案を提出することを目指しています。発行手数料の処理、標準的な情報開示書の作成、指示に基づく継続審査請求書の提出といった定型的な事務作業は、別途の専門家報酬の源泉とはみなされません。
記載されている金額は、記載された範囲内の標準的な案件に対するAddyHartの専門家報酬です。米国特許商標庁(USPTO)手数料、図面作成、調査、翻訳、専門家費用、ベンダー費用、控訴、請願、宣誓供述書、訴訟、および特別な案件は、明示的に記載されている場合を除き、含まれません。すべての代理業務は、利益相反のクリアランスおよび書面による委任契約の対象となります。
半導体
特許サービス
発明の発掘から特許付与後の手続きまで、当社は半導体企業が自社の技術と事業目標に合致した特許ポートフォリオを構築、強化、そして保護できるよう支援します。当社の弁護士は、特許ライフサイクルのあらゆる段階において戦略的な助言を提供し、高度な技術知識と実務的な特許出願経験を融合させています。
発明の発掘とポートフォリオ計画
半導体製品には、ハードウェア、ソフトウェア、製造、システムアーキテクチャなど、特許取得可能な革新的な技術が数多く含まれていることがよくあります。当社は、エンジニアリングチームや社内弁護士と連携し、独自の革新的なコンセプトを特定し、特許出願の機会を優先順位付けし、製品ロードマップ、競争目標、および利用可能な予算に合致したポートフォリオ戦略を策定します。
特許出願書類の作成
強力な半導体特許は、基盤となる技術と商業的な実装の両方を理解することから始まります。当社は、デバイス、回路、システム、製造プロセス、装置、ソフトウェアを網羅する、整合性の取れたクレームを含む出願書類を作成すると同時に、将来の継続出願や進化する製品アーキテクチャに対応できる柔軟性を維持します。
事務所の対応への回答
半導体特許出願では、複数の技術分野にまたがる複雑な先行技術が頻繁に扱われます。当社は、主張された先行技術を評価し、自明性に関する組み合わせを検討し、技術的に裏付けられた主張を提示するとともに、特許請求の範囲の意義と長期的なポートフォリオ価値を維持する、戦略的な拒絶理由通知への対応策を策定します。
試験官インタビュー
米国特許商標庁(USPTO)の審査官との直接の話し合いは、書面によるやり取りだけよりも、技術的な誤解を効果的に解消できる場合が多い。当社は、的を絞った面談戦略を策定し、審査官との面談を実施し、効率的な特許出願手続きとより強力な特許保護を支援する実践的なアドバイスを提供する。
継続戦略および事業部戦略
半導体技術革新は、デバイス、製造、ソフトウェア、システムレベルの実装など、複数の分野にわたる特許請求の範囲を包含することがよくあります。当社は、継続出願や分割出願を活用することで、お客様が貴重な特許請求の機会を維持し、ポートフォリオの適用範囲を拡大し、製品や競争環境の変化に合わせて保護を適応させられるよう支援します。
控訴および特許付与後の手続き
審査を通じて解決できない出願紛争が生じた場合、当社は特許審判部および特許付与後の手続き(当事者間審査および一方的再審査を含む)においてクライアントを代理します。当社の控訴審および特許付与後の手続きにおける豊富な経験は、クレーム作成、出願戦略、ポートフォリオ開発への取り組み方を最初から決定づける上で役立っています。
半導体IPにAddyHartを選ぶ理由
商業目的の訴追
強力な半導体特許は、単なる技術コンセプトを保護するだけでなく、顧客の製品、事業戦略、そして競争上の地位を支えるものでなければなりません。当社は、半導体サプライチェーンにおけるイノベーションの所在、競合他社が類似技術をどのように導入する可能性があるか、そして製品や市場の進化に伴って商業的に意義を持ち続けるための特許請求の範囲の記述方法などを考慮した出願戦略を策定します。
社内特許チームとの連携
米国特許の 主たる顧問弁護士として、あるいは既存の外部弁護士チームを補完する形で、当社はお客様のエンジニアリング、法務、およびビジネスチームと連携し、実用的かつ迅速なサポートを提供します。当社の弁護士は、お客様固有の特許出願ガイドラインに沿って業務を進めながら、予測可能な予算、タイムリーな出願書類作成、一貫したポートフォリオ管理、そして明確な戦略的提言を提供することで、企業が拡大する半導体特許ポートフォリオを効率的に管理できるよう支援します。





