Robert Hyun Chang
オブ・カウンセル · 登録特許弁護士 · 材料エンジニア

ロバート・ヒョン・チャンは、複雑かつ急速に進化する技術に関する特許ポートフォリオの構築、事業化、および収益化をテクノロジー企業に支援しています。米国特許商標庁登録特許弁護士、元設計エンジニア、ならびに25年以上の知的財産実務経験を有するライセンス戦略の専門家として、ロバートは、特許出願・権利化、ポートフォリオ構築、ライセンス、デューデリジェンス、技術の事業化、および特許紛争対応について助言を提供しています。
ロバートは、法律事務所での実務、企業内の知的財産部門におけるリーダーシップ、および大規模な特許収益化の経験を通じて培った視点を備えています。事業会社、投資家、ライセンシー、および潜在的な取引相手が特許ポートフォリオをどのように評価するかを理解しており、その経験を生かして、製品開発、競争上のポジショニング、投資、ライセンス機会、および長期的な事業価値を支える特許権の取得を支援しています。
Intellectual Venturesでは、シニアIPアトーニー、シニアIPストラテジスト、ならびにシニア・テクニカル・ディレクターを歴任しました。半導体、ネットワーク、無線通信、およびフィンテックに関する特許ポートフォリオについて、戦略的な特許出願・権利化およびライセンス支援を担当しました。また、中国におけるライセンス活動を共同で主導し、より広範な特許収益化プログラムも支援しました。この経験により、クレーム範囲、ポートフォリオの構成、実施証拠、および出願・権利化戦略が、その後のライセンスおよび評価額にどのように影響し得るかについて、実践的な知見を有しています。
ロバートの特許出願・権利化およびライセンスに関する視点は、豊富な企業内実務の経験にも裏付けられています。InFocus CorporationではChief IP Counselとして、特許、商標、ライセンス、訴訟、および権利行使に関する業務を統括しました。Intel Corporationでは、半導体プロセスおよびパッケージング技術に関する特許ポートフォリオの構築を担当しました。これらの職務を通じて、知的財産戦略を製品ロードマップ、エンジニアリング上の優先事項、企業予算、競争上のリスク、および事業目標と整合させる実務経験を得ています。
ロバートはまた、スタートアップ、既存のテクノロジー企業、および投資家にサービスを提供する知的財産法律事務所を創設・運営してきました。Columbia IP LawおよびOmikron IP Law Groupを通じて、特許、商標、ライセンス、デューデリジェンス、技術取引、および事業化に関して企業に助言を提供しています。外部顧問としての経験は、資金調達、製品開発、市場参入、提携、および将来的なエグジットと連携した特許戦略を必要とする創業期・成長期の企業にとって、特に有用です。
法曹界に入る前、ロバートはESCO Corporationで6年間、設計エンジニアとして勤務し、材料科学および製造プロセスに関するエンジニアリング・ソリューションの開発に携わりました。冶金・材料科学工学および物理学の学位を有しています。そのエンジニアリングの背景により、発明者と直接対話し、技術を詳細なレベルで理解するとともに、技術革新を商業上重要な特徴に焦点を当てた特許明細書およびクレームへと具体化することができます。
ロバートは、人工知能および機械学習、半導体、半導体製造およびパッケージング、ソフトウェア、クラウドコンピューティング、ネットワーク、無線通信、医療機器、フィンテック、先端材料、および製造システムに関する技術経験を有しています。この幅広い経験により、個別の発明について助言するだけでなく、連携したポートフォリオ構築を支え得る技術間の関連性を見出すことも可能です。
ロバートは韓国語に堪能であり、フランス語でも会話が可能です。語学力とアジアにおけるライセンス活動の経験を生かし、国際企業、発明者、投資家、および外国代理人と協働して、米国特許および事業化戦略を効果的に進めることができます。
ロバートは、ウィラメット大学法科大学院でJ.D.(法務博士)を取得し、ワシントン大学で冶金・材料科学工学および物理学のB.S.(理学士)を取得しました。米国特許商標庁に代理人として登録されており、ワシントン州およびオレゴン州で弁護士資格を有しています。
技術分野
- 人工知能および機械学習
- ソフトウェアおよびクラウドコンピューティング
- 半導体
- 半導体製造プロセスおよびパッケージング
- ネットワークおよび無線通信
- フィンテック
- 医療機器
- 先端材料
- 製造システム
- 電気・コンピュータ技術
- 事業化
登録・資格
- ワシントン州弁護士会
- オレゴン州弁護士会
- 米国特許商標庁(USPTO)
教育
- J.D.(法務博士)、ウィラメット大学法科大学院
- B.S.(理学士)、冶金・材料科学工学、ワシントン大学
- B.S.(理学士)、物理学、ワシントン大学
